上海堿性氣體廢氣處理設(shè)備

堿性氣體

NH3（氨氣）

熔點-77.73攝氏度 沸點-33.33攝氏度

PH3（磷化氫，又名膦）

PH3 熔點-132.8攝氏度 沸點-87.5攝氏度

注意，N2H4（聯(lián)氨）是堿性氣體（二元弱堿）！其熔點為1攝氏度，沸點為113.5攝氏度。

上海堿性氣體廢氣處理設(shè)備電子半導(dǎo)體行業(yè)酸堿性廢氣處理方法，推薦使用噴淋塔。這是因為半導(dǎo)體制造中產(chǎn)生的酸性和堿性廢氣采用分別收集、分別處理的方法，但處理設(shè)備和處理原理基本相同。

對于含有 酸性／堿性物質(zhì)的廢氣，大都采用大型洗滌式中央廢氣處理系統(tǒng)進(jìn)行處理。但是，有些情況下，由于半導(dǎo)體制造工作區(qū)域離中央廢氣處理系統(tǒng)距離較遠(yuǎn)，因此部分酸性／堿性廢氣在輸送至中央廢氣處理系統(tǒng)前，常因氣體特性導(dǎo)致在管路中結(jié)晶或粉塵堆積，造成管路堵塞后導(dǎo)致氣體外泄，嚴(yán)重者甚至引發(fā)爆炸，危害現(xiàn)場工作人員的工作安全。

因此，在工作區(qū)域需配置適合制程氣體特性的就地廢氣處理設(shè)備進(jìn)行就地處理，之后再排入中央處理系統(tǒng)，而一些特殊的廢氣，包括劇毒、自燃、易爆等廢氣則需要先通過干式洗滌塔等設(shè)備通過吸附或氧化／燃燒等方法就地處理，之后再排人中央廢氣處理系統(tǒng) 。

1、酸堿性廢氣的來源

電子半導(dǎo)體行業(yè)中酸堿性廢氣的來源為化學(xué)清洗站，具有刺激性及有害人體，故酸堿性廢氣的處理方法一般是以濕式洗滌塔做水處理后再排入大氣。洗滌塔利用床體或濕潤的表面可以去除0.1微米以上的粒子。其氣體與液體的接觸方式有交叉（垂直交叉）流式、同向流式及逆向流式三種，而水流的設(shè)計上，有噴嘴式，噴霧式，頸式及拉西環(huán)式等四種。

2、以下半導(dǎo)體企業(yè)生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的廢氣均可處理：

Ø 集成電路生產(chǎn)企業(yè)：主要包括數(shù)字集成電路板及模擬集成電路板生產(chǎn)企業(yè)。

Ø 分立器件生產(chǎn)企業(yè)：主要包括晶體二極管、三極管，整流二極管，功率二極管、化合物二極管等生產(chǎn)制造企業(yè)。

Ø 光電組件生產(chǎn)企業(yè)：包括LED、OLED、LCD、光伏太陽能等的生產(chǎn)制造企業(yè)。

由于半導(dǎo)體工藝對操作室清潔度要求*，通常使用風(fēng)機(jī)抽取工藝過程中揮發(fā)的各類廢氣，因此半導(dǎo)體行業(yè)廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點。廢氣排放也以揮發(fā)為主。

與半導(dǎo)體制造工藝相比，半導(dǎo)體封裝工藝產(chǎn)生的廢氣較為簡單，主要是酸性氣體、環(huán)氧樹脂及粉塵。酸性廢氣主要產(chǎn)生于電鍍等工藝；烘烤廢氣則產(chǎn)生于晶粒粘貼、封膠后烘烤過程；劃片機(jī)在晶片切割過程中，產(chǎn)生含微量矽塵的廢氣。